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當前位置:首頁產品中心表面分析離子源系統GCIB 40離子源系統

離子源系統
產品簡介

GCIB-40 離子源系統是一種40 kV氣體團簇離子束,產生團簇離子聚焦束,用于需要對分子離子敏感的分析應用。GCIB在較大程度地減少碎片和從表面去除完整分子方面具有單獨的的能力。在40千伏電壓下工作的GCIB 40提供了優異的電離產率,進一步增強了分子信號。

產品型號:GCIB 40
更新時間:2025-03-19
廠商性質:代理商
訪問量:1366
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簡介

 

GCIB-40 離子源系統是一種40 kV氣體團簇離子束,產生團簇離子聚焦束,用于需要對分子離子敏感的分析應用。 

GCIB 40在較大程度地減少碎片和從表面去除完整分子方面具有優異的處理能力。在40千伏電壓下工作的GCIB 40提供了優異的電離產率,進一步增強了分子信號。 

GCIB-40 離子源系統具有可選擇的簇大小,從單體到10000多個,斑點大小小于3µm,是分析完整分子離子的強大工具,具 有高空間分辨率。

可在J105 SIM上使用,或作為選定第三方儀器的升級。請與我們聯系以獲取更多信息。

       

 

主要參數


 

主要應用                 分析            
光斑尺寸                 3 µm                
掃描范圍                 0.9 x 0.9 mm                
能耗范圍                 10 – 40 kV                
電流范圍                 200 nA                
法蘭至機頭長度                 168 ± 5 mm               
推薦工作距離                 25 mm                
電源裝置                 6U x 19’’ rack mountable unit    
電源要求                 110-240VAC 13A 50/60Hz                
軟件要求                         PC running Windows 10 or later                   
集成法蘭規格                 NW 63 CF                

 

 

 











特點:  

 

◇  40 kV氣體團簇離子束,光斑尺寸為3µm;

◇  實時集群測量和調整;

◇  從單體到>10000的可選簇

◇  使用一系列氣體運行,包括Ar、CO2、Ar/CO2混合氣體;

◇  水源團簇升級可用;

 

     

應用技術: 

 

由于離子束和分子信號的丟失,有機樣品的SIMS分析通 常會導致碎片。使用GCIB,可以減少損傷,以便對材料進行分析和深度剖面。

然而,在近束能量(<40 kV)下,GCIB的二次離子產額可能較低。在更高的能量下操作會產生更高的二次離子產率,同時仍然保持低損傷特性。

下圖顯示了在分析有機樣品時,離子產額如何與束流能量成比例。盡管一次離子劑量保持不變,但來自Irganox  1010薄膜的二次離子信號從20kV到40kV一次束能量增加了五倍以上。 同時,在所有的光束能量中,碎片幾乎保持不變。

      

 

 

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